Без отставания от США: в Китае создали фоточувствительный материал для 7-нм техпроцесса — ochenvkusnyerecepty.ru

В Китае тоже есть свой фоторезист, но он используется только в технологических процессах на лазерах с длинами волны 436 нм (уровень G) и 365 нм (уровень I). В настоящее время основной фоторезист ArF, используемый в Китае для 193-нм лазеров, всё ещё импортируется, а разработку соответствующего материала для EUV-технологии в стране ещё не освоили — создание такого фоторезиста по-прежнему контролируется японскими компаниями.

Сразу несколько китайских компаний на текущий момент работают над фоторезистом, который может использоваться в производстве с технологическими нормами от 28 до 7 нм. Одна из них — Nata Opto из провинции Цзянсу, компания уже отправила партию тестовых образцов фоточувствительного материала своим партнёрам и обещает к 2023 году приступить к серийному производству в объёме 25 тонн в год. По некоторым данным, Nata Opto работает над фоторезистом с 2017 года и даже получила финансовую поддержку от правительства в рамках «Специального проекта 02» (02 Special Project).



Материалы по теме:

    10 необычных гаджетов Xiaomi, о которых вы не знали

Источник: trashbox.ru

Ещё похожие статьи

Добавить комментарий